Nano Lett. 基于砷化铟纳米线的高效中红外光电探测器


引言

近几年来,一维砷化铟纳米线(InAs NW)受到广泛研究。由于迁移率高、带隙窄,一维砷化铟纳米线在光电应用领域表现出极大的潜力。然而,目前对InAs NW的报道大部分局限在可见光波段。砷化铟纳米线对近红外光的特定响应虽然有所报道,但是暗电流大,光开关电流比小等问题并没有得到解决,因此,极大地限制了其光电探测能力。

成果简介

中国科学院上海技术物理研究所、中国科学技术大学以及中国科学院大学的胡伟达和陈效双(通讯作者)等研究人员利用分子束外延技术(MBE)合成了InAs NW,并将其转移至Si/SiO2基底上,成功制备了源/漏电极(S/D)。胡、陈等首次提出可见光协助降低暗电流的方法。该方法有效降低了InAs NW光电探测器的暗电流,提高了其红外探测能力,将器件变为金属-半导体-金属(MSM)光电二极管,实现了小于1µm,大于3µm的宽波段探测,几十微秒的快速响应以及约为10^12 Jones的高探测率。

图文导读

图1:InAs NW MSM光电二极管的形成示意图及在77K下的工作原理

图片1

a)450nm激光照射下光栅层诱导的负响应过程;

b)停止光照后PGL中的表层捕获电子形成的空间电荷区;

c)金属-半导体接触能带示意图及450nm光照前后的势垒高度对比;

d)低偏置电压下红外探测的工作原理;

图2:77K下450nm光照前后的器件性能对比(本实验采用的2000nm激光的功率密度大约均为1.7 mW/mm2)捕获2

a)协助光照前在无光照和2000nm光照下的Ids−Vds线性特征图;

b)协助光照后在无光照和2000nm光照下的Ids−Vds对数特征图;

c)Vds = 0.1 V时,在0.5 Hz-chopped 2000 nm激光照射下MSM 光电二极管的光响应性能;

d)Vds = 0.1 V时,450nm的光照前后在2000nm激光照射下的响应率和探测率对比;

图3:探测机理示意图

捕获3

a)460K下对光的负响应;

b)360K和 460K下电子释放过程的对比;曲线拟合所用数据均取自光照停止后100s内的电流数据;

c)背栅扫压对表层捕获电子的影响;

d)在450nm协助光的调整下重新形成了高Schottky势垒;

e)在无光照(450nm光照后)和450nm光照下的Ids−Vds对数特征图;

f)MSM光电二极管在Vds分别为1.5和2.0V时,450nm光照调整后的光响应性能;

g)InAs NW MSM光电二极管的光电流示意图;

h)示波器记录绘制光电流示意图的过程中记录的光电流(黑线);红线和绿线为高斯拟合的光电流分布,蓝线为拟合光电流的总和;时间轴可视为沿NW的距离;

图4:InAs NW MSM光电二极管的光探测性能

捕获4

a)依赖功率密度的净光电流(Vds =0.1 V , λ = 2000 nm);

b)响应率及净光电流对入射功率密度曲线;

c)对 λ = 2000 nm的光响应的高时间分辨率测试;

d)功率密度为0.7 mW/mm2,在不同波长光照下的Ids−Vds对数特征图;

e)依赖于波长的响应率和探测率;

f)本文及以前报道的探测波段及响应时间;

小结

本文报道了可见光协助的InAs NW MSM光电二极管,成功将InAs NW 光电探测器的探测波段从可见、近红外扩展至中红外。该器件表现出优异的红外探测性能,展示出在红外光电探测领域的极大潜力。

文献链接:Visible Light-Assisted High-Performance Mid-Infrared Photodetectors Based on Single InAs Nanowire(Nano Lett.,2016,DOI: 10.1021/acs.nanolett.6b02860)

本文由材料人电子电工学习小组以亦提供,材料牛编辑整理。

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